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EDI超純水設備簡(jiǎn)介:
EDI是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結合的純水制造技術(shù)。它巧妙的將電滲析和離子交換技術(shù)相結合,利用兩端電*壓使水中帶電離子移動(dòng),并配合離子交換樹(shù)脂及選擇性樹(shù)脂膜以加速離子移動(dòng)去除,從而達到水純化的目的。
EDI設備一般以二級反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達18 MΩ.cm(25℃),但是根據去離子水用途和系統配置設置,EDI超純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。
EDI超純水制備工藝的特點(diǎn):
(1) 脫鹽率大于99.9%,效率遠遠高于兩級反滲透和單純的離子交換。
(2) 較傳統的離子交換法脫鹽節約樹(shù)脂95%以上
(3) 離子交換樹(shù)脂不需使用酸堿再生,節約大量酸堿和清洗用水,降低勞動(dòng) 強度。
(4) 清潔生產(chǎn),無(wú)廢水處理問(wèn)題,利于環(huán)保。
(5) 自動(dòng)化程度高,易維護,可設計成完善的膜技術(shù)高純水生產(chǎn)線(xiàn)。
(6) 產(chǎn)水電阻率15-18MΩ.cm,pH 6.5-7.0,硅<1.0ppb,*無(wú)菌。
(7) 占地面積小,單一系統連續運轉,不需建設備用系統。
EDI超純水制備工藝的流程:
預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(工藝)
的應用范圍:
1、半導體及電子行業(yè)-超純水
2、生物及制藥行業(yè)-純化水
3、發(fā)電廠(chǎng)-鍋爐補給水
4、表面涂裝
5、消費品及化妝品行業(yè)
6、代替各類(lèi)蒸餾水
7、其它對水的純度要求高的行業(yè)
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